電子半導體超純水設備的應用(yòng)
半導體(tǐ)行業的生(shēng)產加工過程與水的使用密(mì)不可分,這就要求水質到達一定的生產使用指標,其(qí)中不(bú)可(kě)含(hán)有任何(hé)的離子雜質。這就需要電子半導體超純水設備將水(shuǐ)中的導電介質去除,再將水中的膠體物質、氣體和有機物去除(chú)。香蕉视频官网使用電導率和電阻率來表示超純水的純(chún)度。
目(mù)前,我國電子(zǐ)工業部把電子級水質標準分為五個標準(18MΩ·CM、15MΩ·CM、10MΩ·CM、2MΩ·CM、0.5MΩ·CM)以區分不同的水質。
1、≥15MΩ·CM電子半導(dǎo)體超純水設備工藝流程:
預處理係統→反滲透(tòu)係統→中間水箱→中(zhōng)間水(shuǐ)泵→EDI處理裝置(zhì)→純水箱→純水(shuǐ)泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→超純水
2、≥17MΩ·CM電子半(bàn)導(dǎo)體(tǐ)超(chāo)純水設備工藝流程:
預處(chù)理係統→一級反(fǎn)滲透係統→PH調節→中間水箱→第二級反滲透(tòu)係統→純水(shuǐ)箱→純水泵→EDI處理(lǐ)裝置→紫(zǐ)外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→超(chāo)純水
3、≥18MΩ·CM電子半(bàn)導體超純水設備工藝流程:
預處理係統→反滲透係統→中間水箱→中(zhōng)間水泵→EDI處理裝置→純水箱(xiāng)→純水泵→紫外線殺(shā)菌(jun1)器→拋光混床→精密(mì)過濾器→超(chāo)純水(shuǐ)
隨著科技研發手段的提(tí)高,新的工藝代替(tì)傳統工藝,您可以根據您所需(xū)的水質要求(qiú)選擇適合您的(de)工藝流程。
電子半導體超純水(shuǐ)設備應(yīng)用領域:
1、半導體和晶元材料的生產、加工、清洗等步驟。
2、高品(pǐn)質顯像管、熒光(guāng)粉(fěn)的生產。
3、超純材料和超純化學試劑的純水使用。
4、生產液晶顯示(shì)器屏幕時所需要的純水清理和純水配液。
5、半導體行(háng)業對材(cái)料(liào)、器材、集成電器和印刷(shuā)電路板上的應用。
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