如何對集成電路（lù）超純水（shuǐ）設備的反滲透膜進行清洗？

在集成電路超純水設備中有（yǒu）很多的預處理措施，要處理的水都是經過預處理後（hòu）才到達反滲透膜，但是在長時間使（shǐ）用後還是產生沉積和結垢（gòu），使膜孔堵塞，產水量下降（jiàng），因此對汙（wū）染膜進行定期的清洗是必要的。那麽怎樣對集成電路超純水設備的反滲透膜進行清洗（xǐ）呢？

一、清洗原則：

了解當地水質特征，對汙染物進行化學分析，通過結果分析，來選擇清洗劑和清洗方法，為特定的給水條（tiáo）件下找出方法提供依據。

二、清洗條件：

1、產（chǎn）品水量比正（zhèng）常時下降5%-10%。

2、為保正產品水（shuǐ）量，修正溫（wēn）度後的供水壓力（lì）增加（jiā）10%-15%。

3、透過集成電（diàn）路超純水設備水質電導率(含鹽量增加)增加5%-10%。

4、多段RO係統（tǒng），通過不同段的壓降明顯增加。

三、清洗（xǐ）方法：

進行低壓清洗;有必要的情況下（xià）進（jìn）行機械清洗;再進行化學清洗;有條件的可（kě）以（yǐ）超聲清洗;在線清洗是一（yī）種很好的方法，但價格比較貴。

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